VTM單晶爐

       VTM單晶爐是依據我公司自主研發的VTM工藝方法所設計的新型單晶工藝設備, 設備由加熱系統、運動系統支撐機構、電控系統四部分組成，適用碲鋅鎘、碲化鎘、銻化鎵等多種化合物半導材料的單晶生長。

VTM單晶爐設備特點

· 晶體生長界面引入磁力控制,穩定晶體生長方向，提高了單晶成品率;
· 整機的機械運動及加熱系統采用PC控制，菜單數據可輸入,歷史數據可查詢，具有聲、光報警，生產重復性高;
· 加熱系統分主加熱裝置和輔助加熱裝置。主加熱控制整體溫度。輔助加熱可移動。實現局部加熱的高精度，加強了溫場的可控性;
· 運動系統采用一鍵式控制。既滿足裝爐時的快速升降，又可以精確控制晶體生長時爐體的緩慢行程速度,大大提高生產效率;
· 支撐機構采用分體式設計,保障穩定性同時有效阻隔了震動，提高單晶生長的質量及成品率;
· 采用剛性傳動機構，傳動效率高，穩定性強。

技術參數