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網站首頁 ꄲ 半導體工藝爐設備 ꄲ 低溫立式爐

低溫立式爐

ꄴ上一個：高溫退火爐

ꄲ下一個：多晶合成爐

低溫立式爐主主要應用于：半導體高精度低溫熱處理工藝。針對于熱處理中溫度低且精度高的工藝環節。

技術參數

工藝溫度范圍	100--300℃
恒溫區長度	250mm（可定制）
恒溫區內單點溫度穩定性	≤±0.5℃
恒溫區內單點溫度重復性	≤±0.5℃
升溫時間	≤20min

低溫

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